USHIO beansprucht mit TinPhoenix die Technologieführerschaft im EUV-Sektor

TinPhoenix von Ushio INC. als Hersteller von EUV-Lichtquellen für Halbleiterbauelemente der nächsten Generation bestätigt

Ushio INC. (Hauptsitz: Tokio, Chief Executive Officer: Koji Naito) baut das Geschäft mit EUV-Lichtquellen weiter aus und bietet Industriekunden auf der ganzen Welt Entwicklung, Fertigung, Betrieb und Kundendienst aus einer Hand. Verwirklicht hat Ushio diese Ziele bereits durch seine engagierte Beteiligung an der Entwicklung von Verfahren für die Massenfertigung von Halbleiterbauelementen der nächsten Generation. Durch die Konzentration seiner vorhandenen Lichttechnologien auf EUV – während andere Hersteller noch auf andere Technologien setzten –, gelang es Ushio, diesen Geschäftsbereich neu zu definieren, um künftig unter der Marke TinPhoenix^*1 das Geschäft mit EUV-Lichtquellen weltweit auszubauen.

Ushio bietet optische Produkte an, die für die Miniaturisierungsanforderungen der Halbleiterhersteller optimiert sind. Bereits seit 1977 bietet Ushio seine UV-Lampen der SH-Serie für den Einsatz in Lithografieanwendungen an. Seit 1988 stellen die Lithografiegeräte der UX-Serie für die Halbleiterfertigung einen wesentlichen Pfeiler des EUV-Angebots von Ushio dar. Im Juli dieses Jahres wurde Ushios EUV-Lichtquelle erstmals von einem Prüfmittelhersteller für die Maskeninspektion im Rahmen der Massenfertigung mit EUV-Lithografie akzeptiert. Durch die Verbesserung der Leistung und Zuverlässigkeit seiner EUV-Lichtquellen mit lasergestütztem Entladungsplasma^*2 hebt sich Ushio deutlich von anderen Anbietern auf dem Markt ab.

Viele japanische Hersteller liefern EUV-Ausrüstung und -Zubehör wie etwa beständige Materialien, Fotomasken oder Inspektionsgeräte, die für die Etablierung der EUV-Technologie in der Halbleiterindustrie unerlässlich sind. Ushio hat jedoch die EUV-Lichtquellentechnologie für die hochpräzise Maskeninspektion kontinuierlich weiterentwickelt, um durch die Realisierung der praktischen Halbleiterfertigung der nächsten Generation den Ausbau neuer sozialer Infrastrukturen wie 5G und IoT zu ermöglichen.

Ihren ersten Messeauftritt hatte die Technologie der Marke TinPhoenix auf der Konferenz PHOTOMASK TECHNOLOGY + EUV LITHOGRAPHY, die vom 15. bis 19. September 2019 im kalifornischen Monterey von der Internationalen Gesellschaft für Optik und Photonik SPIE ausgerichtet wurde.

*¹ TinPhoenix
Der Markenname „TinPhoenix“ des EUV-Lichtquellengeschäftsbereichs von Ushio setzt sich zusammen aus „Tin“ (Zinn) und „Phoenix“, dem mythologischen Symbol der Unsterblichkeit.
Das Unendlichkeitssymbol steht für die beiden im Zinnbad rotierenden Elektroden der EUV-Lichtquelle, während sich im ewig lebenden und ewig strahlenden Phönix der Wunsch von Ushio ausdrückt, mit seinem EUV-Lichtquellengeschäft einen kontinuierlichen Beitrag zur Gesellschaft zu leisten.

^*2 EUV-Lichtquelle mit lasergestütztem, durch Entladung erzeugtem Zinnplasma (Sn LDP) 
Bei diesem Verfahren wird EUV-Licht erzeugt, indem das Zinn auf der Elektrode mit einem Lasertrigger verdampft wird und anschließend das verdampfte Zinn mit einem durch Entladung erzeugten Plasma angeregt wird. Dieses Verfahren zeichnet sich durch eine höhere Intensität und eine höhere Platzersparnis aus als das LPP/Sn-Verfahren, bei dem das EUV-Licht durch Anregung des plasmabildenden Zinns mit dem Laser erzeugt wird, und das DPP-Verfahren, bei dem das EUV-Licht durch Anregung des Xenons mit dem durch Entladung erzeugten Plasma erzeugt wird.